著者: Himanshu Patni
2024年11月7日
UnivDatos Market Insightsの新しいレポートによると、三フッ化窒素およびフッ素ガス市場は、年平均成長率3.03%で成長し、2032年には38億5,123万米ドルに達すると予測されています。半導体産業からの需要の高まり、およびAI、IoT、5G技術の普及により、市場は過去数年間で著しい成長を遂げており、NF₃とF₂はエレクトロニクス製造業において重要な役割を果たすと予想されています。
主な成長要因：
市場は予測期間中に約3.03%の安定した成長率で成長すると予想されています。市場の成長に寄与する主な要因は次のとおりです。–
· 半導体生産の急増：AI、5G、電気自動車の採用に伴い、半導体産業は近年急速な成長を遂げており、エッチングおよび洗浄の目的でNFおよびF₂ガスの需要が増加しています。
· ディスプレイ技術の進歩：携帯電話、タブレット、テレビ、ウェアラブルなどの携帯機器におけるOLEDおよび次世代薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（TFT-LCD）ディスプレイの使用は、洗浄およびエッチングにおいてより高度であり、NF₃を強化するために汚染がないことが重要です。
· 太陽エネルギーの拡大：太陽エネルギー、特に薄膜技術の使用の拡大は、シリコン層の堆積およびセル製造のプロセスで使用されるこれらのガスのより大きな需要を意味しています。
サンプルレポートへのアクセス（グラフ、チャート、図を含む）：https://univdatos.com/reports/nitrogen-trifluoride-fluorine-gas-market?popup=report-enquiry
最新の開発
· 2024年、韓国の暁星（ヒョソン）グループは、特殊ガスおよび工業ガス部門の株式100%を、IMM Private Equity Inc.とSTIC Investments Inc.が主導するコンソーシアムに9億4,330万米ドルで売却する予定です。暁星化学（ヒョソンケミカル）の特殊ガスおよび工業ガス部門は、年間8,000トンの三フッ化窒素（NF3）を生産しており、世界第3位のNF3メーカーとなっています。
· 2022年、SK Materials Co.と昭和電工株式会社は、北米の半導体材料需要に対応するため、米国での高純度ガス生産に関する協力を発表しました。
エレクトロニクス部門が市場を支配
エレクトロニクス部門は、半導体ウェーハ、OLEDパネル、集積回路の需要の高まりにより、NF₃およびF₂の最も重要な消費者となっています。OLEDディスプレイ生産の拡大、ウェーハ製造の推進、および太陽光発電は、NF₃およびF₂の消費を増加させました。第二に、新しいメモリの開発に伴い、先進国におけるメモリ製造の需要が増加しており、中国、台湾、韓国を含むアジア太平洋の新興市場における半導体製造が急速に発展し、需要がさらに高まっています。例えば、2024年、中国は28nm組み込みRRAM画質調整チップと世界初の16ビット量子ビット半導体マイクロプロセッサチップの開発と生産において、世界記録を初めて樹立しました。したがって、半導体の生産量の増加に伴い、三フッ化窒素およびフッ素ガスの需要は増加し、予測期間中も同様の傾向を示すと予想されます。
結論
NF₃およびF₂市場は、半導体、5Gネットワーク、および再生可能資源の開発に支えられ、世界的に緩やかな成長を遂げる見込みです。エレクトロニクス製造および太陽電池製造における洗浄およびエッチング用途でのこれらのガスの重要な用途は、需要を支え続けるはずです。これは、天然ガス供給を使用して製造されたエレクトロニクスの生産で規模の経済を達成するためには、天然ガス供給業者がエレクトロニクス製造業者との戦略的パートナーシップを築くことが重要であることを意味します。
コールバック
