三氟化氮和氟气市场预计将飙升，到2032年增长3.03%，达到3,851.23百万美元，UnivDatos Market Insights预测。

根据UnivDatos Market Insights的一份新报告，三氟化氮和氟气市场预计到2032年将达到3,851.23百万美元，复合年增长率为3.03%。由于半导体行业需求的增长，以及人工智能、物联网和5G技术的日益普及，该市场在过去几年中出现了显著增长，NF₃和F₂预计将在电子制造业中发挥关键作用。

主要增长动力：

预计该市场在预测期内将以约3.03%的稳定速度增长。促进市场增长的主要因素有：–

· 半导体产量激增：随着人工智能、5G和电动汽车的采用，半导体行业近来发展迅速，因此增加了对NF和F₂气体用于蚀刻和清洗的需求。

· 显示技术的进步：在手机、平板电脑、电视和可穿戴设备等便携设备中使用OLED和下一代薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）进行清洁和蚀刻的需求更高，避免污染以增强NF₃。

· 太阳能的扩张：太阳能的普及，特别是薄膜技术，意味着对用于硅层沉积和电池制造过程中的这些气体的需求更大。

访问样本报告（包括图表和数据）：https://univdatos.com/reports/nitrogen-trifluoride-fluorine-gas-market?popup=report-enquiry

最新发展

· 2024年，韩国晓星集团准备将其特种和工业气体部门的100%股权出售给由IMM Private Equity Inc.和STIC Investments Inc.牵头的财团，金额为9.433亿美元。晓星化学的特种和工业气体部门生产8,000吨三氟化氮（NF3），使其成为世界第三大NF3制造商。

· 2022年，SK Materials Co.和昭和电工株式会社宣布计划在美国合作生产高纯度气体，旨在满足北美半导体材料的需求。

电子产品部门主导市场

由于对半导体晶圆、OLED面板和集成电路的需求不断增长，电子产品部门一直是NF₃和F₂最主要的消费领域。OLED显示器产量的扩大、晶圆制造的推广以及太阳能的利用提高了NF₃和F₂的消耗量。其次，随着新存储器的开发，发达国家对存储器制造的需求正在增加，包括中国台湾和韩国在内的亚太新兴市场的半导体制造发展迅速，进一步提高了需求。例如，2024年，中国首次在开发和生产28nm嵌入式RRAM图像质量调节芯片以及世界首个16位量子位半导体微处理器芯片方面创造了世界纪录。因此，随着半导体产量的增加，对三氟化氮和氟气的需求也在增加，预计在预测期内也将以同样的方式发展。

结论

在半导体、5G网络和可再生资源发展的影响下，NF₃和F₂市场有望实现全球适度增长。这些气体在电子制造和太阳能电池制造中的清洁和蚀刻应用中的关键用途应继续支持需求。这意味着，为了在电子产品生产中实现规模经济以利用天然气供应，天然气供应商与电子产品制造商建立战略合作伙伴关系仍然至关重要。