根据 UnivDatos Market Insights 的一份新报告,三氟化氮和氟气市场预计到 2032 年将达到 3,851.23 百万美元,复合年增长率为 3.03%。由于半导体行业需求的增长以及人工智能、物联网和 5G 技术的日益普及,该市场在过去几年中实现了显着增长,NF₃ 和 F₂ 有望在电子制造业中发挥关键作用。
主要增长动力:
预计该市场在预测期内将以 3.03% 左右的稳定速度增长。促进市场增长的主要因素有:–
· 半导体产量激增:随着人工智能、5G 和电动汽车的采用,半导体行业近年来发展迅速,因此增加了对用于蚀刻和清洁的 NF 和 F₂ 气体的需求。
· 显示技术的进步:在手机、平板电脑、电视和可穿戴设备等便携式设备中使用 OLED 和下一代薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 显示器进行清洁和蚀刻的需求更高,并且无污染以增强 NF₃ 的性能。
· 太阳能的扩张:太阳能的普及,特别是薄膜技术,意味着对用于硅层沉积和电池制造过程中的这些气体的需求更大。
访问样本报告(包括图表和数字):https://univdatos.com/reports/nitrogen-trifluoride-fluorine-gas-market?popup=report-enquiry
最新发展
· 2024 年,韩国晓星集团准备将其特种和工业气体部门的 100% 股权出售给由 IMM Private Equity Inc. 和 STIC Investments Inc. 牵头的财团,金额为 9.433 亿美元。晓星化学的特种和工业气体部门生产 8,000 吨三氟化氮 (NF3),使其成为世界第三大 NF3 制造商。
· 2022 年,SK Materials Co. 和昭和电工株式会社宣布计划在美国合作生产高纯度气体,旨在满足北美半导体材料的需求。
电子产品领域主导市场
由于对半导体晶圆、OLED 面板和集成电路的需求不断增长,电子产品领域一直是 NF₃ 和 F₂ 最重要的消费领域。OLED 显示器产量的扩大、晶圆制造的推广以及太阳能的利用提高了 NF₃ 和 F₂ 的消耗量。其次,随着新存储器的开发,发达国家对存储器制造的需求正在增加,包括中国台湾和韩国在内的亚太新兴市场的半导体制造也迅速发展,进一步提高了需求。例如,2024 年,中国首次在开发和生产 28 纳米嵌入式 RRAM 图像质量调整芯片和世界首个 16 位量子位半导体微处理器芯片方面创造了世界纪录。因此,随着半导体产量的增加,对三氟化氮和氟气的需求迅速增加,预计在预测期内也将以同样的方式发展。
结论
在半导体、5G 网络和可再生资源发展态势的支撑下,NF₃ 和 F₂ 市场有望实现全球适度增长。这些气体在电子制造和太阳能电池制造中的清洁和蚀刻应用中的关键用途应会继续支持需求。这意味着为了在电子产品生产中实现规模经济,利用天然气供应仍然至关重要,天然气供应商应与电子产品制造商建立战略合作伙伴关系。
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