作者: Prithu Chawla, Senior Research Analyst
2025年2月18日
對更小節點的需求：為了滿足支援 AI、5G 和物聯網等新興技術的先進半導體節點的高需求。
研發和製造方面的投資：增加對半導體能力的研發和製造投資。
高效能晶片：從汽車到消費性電子產品和資料中心的各個行業，對節能高效能晶片的需求不斷增長。
政府支援：努力建立國內半導體生產，並減少對外國技術的進口。
EUV 技術的技術進步：下一代晶片生產精度和產量促成了 EUV 微影技術的進步。
不斷增長的消費者需求：消費者對功能更強大的智慧裝置的需求不斷增長，這需要更小、更高效的半導體晶片。
晶圓代工廠產能擴張：增加所需的晶圓代工廠產能，以支援無晶圓廠半導體公司對客製化晶片日益增長的需求。
根據 UnivDatos 的一份新報告，極紫外光微影市場預計將以 12.8% 的複合年增長率成長，於 2032 年達到 270.144 億美元。EUV 微影市場是半導體產業的次要市場區隔，用於生產 5 奈米、3 奈米及更先進節點的晶片。EUV 微影技術的波長為 13.5 奈米，用於半導體晶圓的高解析度圖案化，是開發更小、更快、更高效晶片的必要條件。這對於釋放 AI、5G、物聯網、自動駕駛汽車和消費性電子產品的創新至關重要。主要驅動因素包括對高效能晶片日益增長的需求、台積電、三星和英特爾等產業巨頭的重大投資，以及半導體製造技術的快速進步。世界範圍內對 EUV 微影技術的採用也受到政府資金和政府主導的半導體供應鏈建立的協助。
美國、韓國和台灣是 EUV 微影市場成長最快的國家，這得益於其強大的半導體生態系統以及對最先進製造技術的大量投資。隨著美國大量 CHIPS 法案投資和英特爾及台積電的新晶圓廠，美國正在快速成長。韓國的三星和 SK 海力士押注自身擴大晶圓代工廠產能，以搭上全球對先進晶片的需求。總部位於台灣的台積電仍然在晶片生產方面處於世界領先地位，因為它擁有最先進的能力和大量的產能。此外，中國正在日益扮演更積極的角色，透過政府的大力投資，以減少對外國半導體技術的依賴，並實現技術自主。EUV 微影市場的未來正由這些國家推動，它們既促進也擴大了創新。
EUV 微影市場的主要驅動因素是對更小半導體節點的需求。隨著 AI、5G 和物聯網等技術的發展，我們看到對更小、更強大和更節能晶片的需求不斷增加。為了實現這些先進技術，也必須有晶體管密度更高的晶片，以支援更快的處理速度和更低的功耗。為了繼續超越 5 奈米、3 奈米和 2 奈米節點，半導體製造商必須越來越依賴 EUV 微影技術，以便實現此類小特徵尺寸所必需的非常精確的圖案化。由於對更小節點的迫切需求，這將保持 EUV 市場的成長。
半導體公司大量投資於研發和製造，而 EUV 微影技術的採用正在加速。但英特爾、台積電和三星正在投入數十億美元進行矽科學的研發，以保持在競爭激烈的晶片製造領域的前沿。這些投資的重點是製造效率、新型晶片架構的開發以及先進半導體技術的創建。因此，EUV 微影對於透過將當前光刻技術的領先優勢延伸到目前可能實現的範圍之外，對於實現下一代晶片至關重要。
EUV 市場的另一個主要驅動力是對高效能晶片日益增長的需求。提供更高速度、更大儲存容量和更節能效能的晶片正迅速在汽車、消費性電子產品、資料中心和雲端運算等行業中變得越來越受歡迎。如果不採用先進的半導體製程（例如 EUV 微影技術），就無法滿足這些需求，EUV 微影技術可以製造具有更小、越來越密集封裝的晶體管的晶片，這些晶體管運行速度更快且功耗更低。隨著對這些晶片在應用中的依賴持續增加，對 EUV 技術的需求也同時增長。
再次強調，EUV 微影技術的採用在很大程度上取決於政府的倡議和資金。對於世界各地的許多政府來說尤其如此，包括美國、歐洲和亞洲等地區的政府，這些政府已開始實施倡議，以增加國內半導體生產並減少對外國技術的依賴。例如，美國的 CHIPS 法案投入資金以鼓勵國內晶片製造，從而推動了 EUV 等先進技術的採用。同樣，韓國和日本等國家也大力投資於發展其半導體產業。這營造了一個 EUV 技術蓬勃發展的環境，更重要的是，這為市場提供了長期的成長。
EUV 微影市場因政府的大力支持而表現出強勁的發展前景，這得益於對更高性能、更小半導體和更強大製造科學日益增長的需求。但隨著 AI、5G、汽車和消費性電子產品等產業的發展，高效能、節能晶片將變得更加必要，而 EUV 對於滿足這些需求至關重要。EUV 市場由正在進行的研發和晶圓代工廠擴張投資驅動，以及旨在加強半導體供應鏈並支援其致力於帶來未來半導體製造的策略性計畫推動。
按營收劃分的市場規模、趨勢和預測 | 2024-2032
市場動態 – 主要趨勢、成長動力、限制因素和投資機會
市場區隔 – 按元件和終端用戶的詳細分析
競爭格局 – 主要供應商和其他重要供應商
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