三氟化氮與氟氣市場預計將大幅成長 3.03%，到 2032 年達到 38.5123 億美元，UnivDatos Market Insights 預測

根據 UnivDatos Market Insights 的一份新報告，三氟化氮與氟氣市場預計到 2032 年將達到 38.5123 億美元，複合年增長率為 3.03%。由於半導體產業的需求不斷增長，以及人工智慧、物聯網和 5G 技術的日益普及，市場在過去幾年中出現了顯著增長，NF₃ 和 F₂ 預計將在電子製造業中發揮關鍵作用。

主要成長驅動因素：

預計該市場在預測期內將以約 3.03% 的穩定速度增長。促進市場增長的主要因素有：–

·半導體產量激增：隨著人工智慧、5G 和電動汽車的採用，半導體產業近年來快速增長，因此增加了對用於蝕刻和清潔的三氟化氮 (NF₃) 和氟氣 (F₂) 的需求。

·顯示技術的進步：OLED 和下一代薄膜電晶體液晶顯示器 (TFT-LCD) 顯示器在手機、平板電腦、電視和穿戴裝置等可攜式裝置中的使用率較高，可用於清潔和蝕刻，且無污染，可增強 NF₃。

·太陽能的擴張：太陽能的普及，尤其是薄膜技術，意味著對矽層沉積和電池製造過程中使用的這些氣體的需求更大。

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最新發展

·2024 年，韓國曉星集團準備將其特殊與工業氣體部門的 100% 股權出售給由 IMM Private Equity Inc. 和 STIC Investments Inc. 領銜的財團，金額為 9.433 億美元。曉星化學的特殊與工業氣體部門生產 8,000 噸三氟化氮 (NF3)，使其成為全球第三大 NF3 製造商。

·2022 年，SK Materials Co. 和昭和電工株式會社宣布計劃在美國合作生產高純度氣體，旨在滿足北美對半導體材料的需求。

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電子產品部門主導市場

由於對半導體晶圓、OLED 面板和積體電路的需求不斷增加，電子產品部門一直是 NF₃ 和 F₂ 最重要的消費者。OLED 顯示器產量的擴張、晶圓製造的促銷以及太陽能發電提高了 NF₃ 和 F₂ 的消耗量。其次，隨著新記憶體的發展，先進國家對記憶體製造的需求不斷增加，包括中國台灣和韓國在內的亞太新興市場的半導體製造業發展迅速，進一步提高了需求。例如，2024 年，中國有史以來第一次在開發和生產 28 奈米嵌入式 RRAM 圖像品質調整晶片和世界首個 16 位元量子位元半導體微處理器晶片方面創下了世界紀錄。。因此，隨著半導體產量的增加，對三氟化氮和氟氣的需求迅速增加，並且預計在預測期內也會以同樣的方式發展。

結論

在半導體、5G 網路和再生資源發展的推動下，NF₃ 和 F₂ 市場有望實現全球溫和增長。這些氣體在電子製造和太陽能電池製造中用於清潔和蝕刻的關鍵用途應繼續支持需求。這意味著，為了在電子產品生產中實現規模經濟以利用天然氣供應，天然氣供應商與電子產品製造商建立戰略合作夥伴關係仍然至關重要。