극자외선(EUV) 리소그래피 시장: 현재 분석 및 예측(2024-2032)

극자외선 리소그래피 시장 규모 및 예측

극자외선 리소그래피 시장은 2023년 91억 3,720만 달러로 평가되었으며, 정부 지원, 기술 발전, 소형 고성능 칩에 대한 수요 증가에 힘입어 예측 기간(2024-2032) 동안 약 12.8%의 강력한 연평균 성장률(CAGR)을 보일 것으로 예상됩니다.

극자외선 리소그래피 시장 분석

EUV 리소그래피 시장은 5nm, 3nm 및 그 이하의 첨단 노드에서 칩을 생산하는 데 필요한 반도체 산업의 2차 시장 부문입니다. 13.5nm 파장을 갖는 EUV 리소그래피는 반도체 웨이퍼의 고해상도 패턴 형성에 사용되며, 더 작고 빠르며 효율적인 칩 개발에 필요합니다. 이는 AI, 5G, IoT, 자율 주행차 및 소비자 가전 제품의 혁신을 실현하는 데 핵심입니다. 주로 고성능 칩에 대한 시장 수요 증가, TSMC, 삼성, 인텔 등 업계 거대 기업의 상당한 투자, 반도체 제조 기술의 급속한 발전에 의해 주도됩니다. 전 세계적으로 EUV 리소그래피의 채택은 정부 자금 지원 및 정부 주도의 반도체 공급망 구축을 통해 지원됩니다.

미국, 한국, 대만이 EUV 리소그래피 시장에서 가장 빠르게 성장하는 국가이며, 강력한 반도체 생태계와 최첨단 제조 기술에 대한 대규모 투자가 뒷받침됩니다. 막대한 CHIPS Act 투자와 인텔 및 TSMC의 새로운 공장 건설을 통해 미국이 빠르게 성장하고 있습니다. 한국의 삼성 및 SK 하이닉스는 첨단 칩에 대한 글로벌 수요를 충족하기 위해 파운드리 생산 능력을 확장하는 데 투자하고 있습니다. 대만에 본사를 둔 TSMC는 가장 발전된 기술과 대량 생산 능력을 보유하고 있어 여전히 칩 생산 분야에서 세계를 선도하고 있습니다. 또한 중국은 해외 반도체 기술 의존도를 줄이고 기술 자립을 달성하기 위해 정부의 막대한 투자를 통해 더욱 적극적인 역할을 수행하고 있습니다. EUV 리소그래피 시장의 미래는 이러한 국가들이 혁신을 육성하고 확대하는 데 의해 주도되고 있습니다.

극자외선 리소그래피 시장 동향

이 섹션에서는 연구 전문가 팀이 파악한 극자외선 리소그래피 시장의 다양한 부문에 영향을 미치는 주요 시장 동향에 대해 설명합니다.

소형 노드 수요

EUV 리소그래피 시장의 주요 동력은 더 작은 반도체 노드의 요구 사항입니다. AI, 5G 및 IoT와 같은 기술이 발전함에 따라, 더 작고 강력하며 에너지 효율적인 칩에 대한 수요가 증가하고 있습니다. 이러한 첨단 기술을 가능하게 하려면 더 빠른 처리 속도와 낮은 전력 소비를 지원하기 위해 트랜지스터 밀도가 더 높은 칩도 필요합니다. 5nm, 3nm, 2nm 노드를 넘어 지속적으로 발전하기 위해 반도체 제조업체는 이러한 작은 특징 크기에 필요한 매우 정밀한 패턴 형성을 위해 EUV 리소그래피에 점점 더 의존해야 합니다. 이는 소형 노드에 대한 이러한 요구로 인해 EUV 시장이 성장세를 유지하게 합니다.

R&D 및 제조 투자

반도체 기업들은 연구, 개발 및 제조에 대규모 투자를 하고 있으며, EUV 리소그래피 도입이 가속화되고 있습니다. 그러나 인텔, TSMC, 삼성은 칩 제조 경쟁에서 앞서기 위해 실리콘 과학에 수십억 달러를 연구 개발에 투자하고 있습니다. 이러한 투자는 제조 효율성, 새로운 칩 아키텍처 개발, 첨단 반도체 기술 창출에 초점을 맞추고 있습니다. 따라서 EUV 리소그래피는 현재 가능한 수준을 넘어 현행 광학 리소그래피의 선두를 확장함으로써 차세대 칩을 가능하게 하는 데 필수적입니다.

고성능 칩

EUV 시장의 또 다른 주요 동인은 고성능 칩에 대한 수요 증가입니다. 더 빠른 속도, 더 큰 저장 용량 및 더 에너지 효율적인 성능을 제공하는 칩은 자동차, 소비자 가전, 데이터 센터 및 클라우드 컴퓨팅과 같은 산업 전반에서 빠르게 수요가 증가하고 있습니다. 이러한 요구 사항은 EUV 리소그래피와 같은 첨단 반도체 공정을 통해서만 충족될 수 있으며, 이를 통해 더 작고 더욱 조밀하게 배치된 트랜지스터를 사용하여 더 빠르게 실행되고 전력 소비가 적은 칩을 제조할 수 있습니다. 이러한 칩에 대한 의존도가 응용 분야에서 계속 증가함에 따라 EUV 기술에 대한 수요도 동시에 증가합니다.

정부 지원

다시 한 번, EUV 리소그래피의 채택은 정부의 주도와 자금 지원에 크게 의존하고 있습니다. 이는 미국, 유럽, 아시아와 같은 지역의 정부를 포함하여 전 세계 많은 정부에서 자국 반도체 생산을 늘리고 외국 기술 의존도를 줄이기 위한 이니셔티브를 시작했기 때문입니다. 예를 들어, 미국 CHIPS Act는 국내 칩 제조를 장려하기 위해 자금을 지출하여 EUV와 같은 첨단 기술의 채택을 추진합니다. 마찬가지로 한국과 일본과 같은 국가는 자국 반도체 산업 발전에 많은 투자를 했습니다. 이는 EUV 기술이 번성하고 성장하는 환경을 조성하며, 더 중요하게는 장기적인 시장 성장을 제공합니다.

APAC, 예측 기간 동안 상당한 CAGR로 성장할 것으로 예상

아시아 태평양(APAC) 지역은 극자외선(EUV) 리소그래피 시장의 선두 주자이며, TSMC(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company), 삼성전자, SK하이닉스와 같은 주요 반도체 제조업체를 유치합니다. 이러한 기업들은 APAC의 반도체 생산 글로벌 허브에서 5nm 및 3nm 노드와 같은 첨단 칩 생산에 EUV를 도입하는 데 앞장서고 있습니다. 대만, 한국, 일본, 중국과 같은 국가에서 정부 주도는 국내 반도체 R&D에 대한 대규모 투자, 자금 지원 및 R&D 지원을 통해 EUV의 도입을 더욱 늘리고 있습니다. APAC는 5G, AI 및 자동차와 같은 산업 전반에서 고성능, 에너지 효율적인 칩에 대한 수요 증가와 글로벌 반도체 환경을 정의하는 혁신 및 제조 역량 주도로 인해 EUV 리소그래피의 핵심 시장으로 남아 있습니다.

극자외선 리소그래피 산업 개요

극자외선 리소그래피 시장은 경쟁이 심화되고 분열되어 있으며, 여러 글로벌 및 국제 시장 참여자가 존재합니다. 주요 업체들은 파트너십, 계약, 협업, 신제품 출시, 지리적 확장, 인수 합병 등 시장 입지를 강화하기 위해 다양한 성장 전략을 채택하고 있습니다. 시장에서 활동하는 주요 업체로는 ASML Holding NV, NTT Advanced Technology Corporation, Canon Inc., Nikon Corporation, Intel Corporation, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Samsung Electronics Co. Ltd., Toppan Photomasks Inc., ZEISS Group, Ushio, Inc. 등이 있습니다.

극자외선 리소그래피 시장 뉴스

• 2024년 5월, 인텔은 올해 생산될 ASML의 High Numerical Aperture NA 극자외선(High NA EUV) 칩 제조 장비 전체를 확보했습니다. TheElec의 보고서에 따르면, 네덜란드에 본사를 둔 ASML은 매년 약 5~6대의 high-NA EUV 장비를 생산할 수 있으며, 인텔은 2024년에 생산될 5대를 모두 확보했습니다. 각 장비의 가격은 약 3억 7천만 달러입니다. 보고서는 삼성과 SK하이닉스가 ASML의 장비를 확보하려면 2025년 하반기까지 기다려야 할 것이라고 덧붙였습니다.

극자외선 리소그래피 시장 보고서 범위

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