극자외선 노광 시장 규모 및 예측
극자외선 노광 시장은 2023년에 91억 3,720만 달러로 평가되었으며 정부 지원, 기술 발전, 더 작고 고성능 칩에 대한 수요 증가로 인해 예측 기간(2024-2032) 동안 약 12.8%의 강력한 연평균 성장률(CAGR)로 성장할 것으로 예상됩니다.
극자외선 노광 시장 분석
EUV 노광 시장은 5nm, 3nm 등과 같은 고급 노드에서 칩을 생산하는 데 필요한 반도체 산업의 2차 시장 부문입니다. 파장이 13.5nm인 EUV 노광은 반도체 웨이퍼의 고해상도 패터닝에 사용되며 더 작고 빠르며 효율적인 칩 개발에 필요합니다. 이는 AI, 5G, IoT, 자율 주행 차량 및 소비자 가전의 혁신을 촉진하는 데 핵심입니다. 주로 고성능 칩에 대한 시장 수요 증가, TSMC, Samsung 및 Intel과 같은 업계 거대 기업의 상당한 투자, 반도체 제조 기술의 빠른 발전으로 인해 주도됩니다. EUV 노광의 전 세계적인 채택은 정부 자금 지원과 정부 이니셔티브에 의한 반도체 공급망 구축에 의해서도 지원됩니다.
미국, 한국, 대만은 강력한 반도체 생태계와 최첨단 제조 기술에 대한 대규모 투자에 힘입어 EUV 노광 시장에서 가장 빠르게 성장하는 국가입니다. 막대한 CHIPS Act 투자와 Intel 및 TSMC의 새로운 팹으로 인해 미국은 빠르게 성장하고 있습니다. 한국의 Samsung과 SK Hynix는 고급 칩에 대한 글로벌 수요를 타고 파운드리 용량을 확장하는 데 주력하고 있습니다. 대만에 본사를 둔 TSMC는 가장 앞선 역량과 대량 생산 능력을 갖추고 있기 때문에 여전히 칩 생산에서 세계를 선도하고 있습니다. 또한 중국은 외국 반도체 기술에 대한 의존도를 줄이고 기술 자립을 달성하기 위해 정부의 심층적인 투자와 함께 점점 더 적극적인 역할을 수행하고 있습니다. EUV 노광 시장의 미래는 혁신을 육성하고 확장하는 데 있어 이러한 국가들에 의해 주도되고 있습니다.
극자외선 노광 시장 동향
이 섹션에서는 당사 연구 전문가 팀이 확인한 극자외선 노광 시장의 다양한 부문에 영향을 미치는 주요 시장 동향에 대해 논의합니다.
더 작은 노드에 대한 수요
EUV 노광 시장의 핵심 동인은 더 작은 반도체 노드에 대한 요구 사항입니다. AI, 5G 및 IoT와 같은 기술이 발전함에 따라 더 작고 강력하며 에너지 효율적인 칩의 용도가 증가하고 있습니다. 이러한 고급 기술을 가능하게 하려면 더 빠른 처리 속도와 더 적은 전력 소비를 지원하기 위해 트랜지스터 밀도가 더 높은 칩도 있어야 합니다. 5nm, 3nm 및 2nm 노드를 넘어 계속 추진하려면 반도체 제조업체는 이러한 낮은 특징 크기에 필요한 매우 정확한 패터닝을 허용하기 위해 EUV 노광에 점점 더 의존해야 합니다. 이것이 더 작은 노드에 대한 요구 때문에 EUV 시장이 계속 성장하는 이유입니다.
R&D 및 제조에 대한 투자
반도체 회사는 연구, 개발 및 제조에 대규모로 투자하고 있으며 EUV 노광 채택이 가속화되고 있습니다. 그러나 Intel, TSMC 및 Samsung은 칩 제조의 경쟁적인 세계에서 앞서나가기 위해 실리콘 과학에 대한 연구 개발에 수십억 달러를 투자하고 있습니다. 이러한 투자의 초점은 제조 효율성, 새로운 칩 아키텍처 개발 및 고급 반도체 기술 개발입니다. 따라서 EUV 노광은 현재 가능한 것을 넘어 현재 포토리소그래피의 최첨단을 확장하여 차세대 칩을 가능하게 하는 데 필수적입니다.
고성능 칩
EUV 시장의 또 다른 주요 동인은 고성능 칩에 대한 수요 증가입니다. 더 빠른 속도, 더 큰 저장 용량, 더 에너지 효율적인 성능을 제공하는 칩은 자동차, 소비자 가전, 데이터 센터 및 클라우드 컴퓨팅과 같은 산업 전반에서 빠르게 수요가 증가하고 있습니다. 이러한 요구 사항은 더 작고 점점 더 조밀하게 포장된 트랜지스터로 칩을 제조하여 더 빠르게 실행되고 전력을 덜 소비할 수 있는 EUV 노광과 같은 고급 반도체 공정 없이는 충족할 수 없습니다. 이러한 칩에 대한 의존도가 응용 분야에서 계속 증가함에 따라 EUV 기술에 대한 수요도 동시에 증가합니다.
정부 지원
다시 말하지만, EUV 노광의 채택은 정부 이니셔티브 및 자금 지원에 크게 의존합니다. 이는 특히 미국, 유럽 및 아시아와 같은 지역의 정부를 포함하여 국내 반도체 생산을 늘리고 외국 기술에 대한 의존도를 줄이기 위한 이니셔티브를 시작한 전 세계 많은 정부에 해당됩니다. 예를 들어, 미국 CHIPS Act는 국내 칩 제조를 장려하기 위해 자금을 지출하여 EUV와 같은 고급 기술의 채택을 촉진합니다. 마찬가지로 한국과 일본과 같은 국가도 반도체 산업 개발에 많은 투자를 했습니다. 이는 EUV 기술이 번성하고 성장할 수 있는 환경을 조성하고, 더 중요하게는 장기적인 시장 성장을 제공합니다.
APAC은 예측 기간 동안 상당한 연평균 성장률로 성장할 것으로 예상됩니다.
아시아 태평양(APAC) 지역은 극자외선(EUV) 노광 시장의 최전선에 있으며 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company(TSMC), Samsung Electronics 및 SK Hynix와 같은 주요 반도체 제조업체를 유치하고 있습니다. 이들 회사는 APAC의 글로벌 반도체 생산 허브에서 5nm 및 3nm 노드와 같은 고급 칩 생산을 위해 EUV를 채택하는 데 앞장서고 있습니다. 대만, 한국, 일본 및 중국과 같은 국가에서는 국내 반도체 R&D에 대한 대규모 투자, 자금 지원 및 R&D 지원과 함께 정부 이니셔티브가 EUV 채택을 더욱 증가시키고 있습니다. APAC은 5G, AI 및 자동차와 같은 산업 전반에 걸쳐 고성능, 에너지 효율적인 칩에 대한 수요 증가와 글로벌 반도체 환경을 정의하는 데 도움이 되는 혁신 및 제조 역량 추진으로 인해 EUV 노광의 핵심 시장으로 계속 남아 있습니다.
극자외선 노광 산업 개요
극자외선 노광 시장은 경쟁이 치열하고 파편화되어 있으며 여러 글로벌 및 국제 시장 플레이어가 존재합니다. 주요 업체들은 파트너십, 계약, 협업, 신제품 출시, 지리적 확장, 인수 합병 등 다양한 성장 전략을 채택하여 시장 입지를 강화하고 있습니다. 시장에서 활동하는 주요 업체로는 ASML Holding NV, NTT Advanced Technology Corporation, Canon Inc., Nikon Corporation, Intel Corporation, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Samsung Electronics Co. Ltd., Toppan Photomasks Inc., ZEISS Group 및 Ushio, Inc.가 있습니다.
극자외선 노광 시장 뉴스
2024년 5월, Intel은 올해 제조될 예정인 ASML의 모든 High Numerical Aperture NA 극자외선(High NA EUV) 칩 제조 장비 재고를 확보했습니다. TheElec의 보고서에 따르면 네덜란드에 본사를 둔 ASML은 매년 약 5~6대의 High-NA EUV 장비를 생산할 수 있는 능력을 갖추고 있으며 Intel은 2024년에 생산될 예정인 5대 모두를 확보했습니다. 각 장비의 비용은 약 3억 7천만 달러입니다. 이 보고서는 Samsung과 SK Hynix가 ASML에서 장비를 확보하려면 2025년 하반기까지 기다려야 할 것이라고 덧붙였습니다.
극자외선 노광 시장 보고서 범위
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목차
극자외선(EUV) 리소그래피 시장 분석(2024-2032)을 위한 연구 방법론
글로벌 극자외선 리소그래피 시장의 과거 시장 분석, 현재 시장 추정 및 미래 시장 예측은 주요 지역에서 극자외선 리소그래피의 채택을 조사하고 파악하기 위해 수행된 세 가지 주요 단계였습니다. 과거 시장 수치를 수집하고 현재 시장 규모를 추정하기 위해 철저한 2차 연구가 수행되었습니다. 둘째, 이러한 통찰력을 검증하기 위해 수많은 결과와 가정이 고려되었습니다. 또한, 글로벌 극자외선 리소그래피 시장의 가치 사슬 전반에 걸쳐 업계 전문가와 함께 철저한 1차 인터뷰도 진행되었습니다. 1차 인터뷰를 통해 시장 수치를 가정하고 검증한 후, 전체 시장 규모를 예측하기 위해 하향식/상향식 접근 방식을 사용했습니다. 그 후, 산업의 세분 시장 및 하위 세분 시장의 시장 규모를 추정하고 분석하기 위해 시장 세분화 및 데이터 삼각 측량 방법이 채택되었습니다. 자세한 방법론은 아래에 설명되어 있습니다.
과거 시장 규모 분석
1단계: 2차 출처에 대한 심층 연구:
연례 보고서 및 재무제표, 실적 발표, 보도 자료 등 회사 내부 출처와 저널, 뉴스 및 기사, 정부 간행물, 경쟁사 간행물, 부문 보고서, 타사 데이터베이스 및 기타 신뢰할 수 있는 간행물 등 외부 출처를 통해 극자외선 리소그래피의 과거 시장 규모를 확보하기 위해 자세한 2차 연구가 수행되었습니다.
2단계: 시장 세분화:
극자외선 리소그래피의 과거 시장 규모를 확보한 후, 주요 지역의 다양한 세분 시장 및 하위 세분 시장에 대한 과거 시장 통찰력과 점유율을 수집하기 위해 자세한 2차 분석을 수행했습니다. 주요 세분 시장은 구성 요소 및 최종 사용자와 같이 보고서에 포함되어 있습니다. 또한 해당 지역에서 테스트 모델의 전반적인 채택을 평가하기 위해 국가 수준 분석을 수행했습니다.
3단계: 요인 분석:
다양한 세분 시장 및 하위 세분 시장의 과거 시장 규모를 확보한 후, 극자외선 리소그래피의 현재 시장 규모를 추정하기 위해 자세한 요인 분석을 수행했습니다. 또한 극자외선 리소그래피 시장의 구성 요소 및 최종 사용자와 같은 종속 변수와 독립 변수를 사용하여 요인 분석을 수행했습니다. 전 세계 극자외선 리소그래피 부문에서 최고의 파트너십, 합병 및 인수, 사업 확장 및 제품 출시를 고려하여 수요 및 공급측 시나리오에 대한 철저한 분석이 수행되었습니다.
현재 시장 규모 추정 및 예측
현재 시장 규모 산정: 위의 3단계의 실행 가능한 통찰력을 바탕으로 현재 시장 규모, 글로벌 극자외선 리소그래피 시장의 주요 업체 및 세분 시장의 시장 점유율에 도달했습니다. 필요한 모든 비율 점유율 분할 및 시장 세분화는 위에 언급된 2차 접근 방식을 사용하여 결정되었고 1차 인터뷰를 통해 확인되었습니다.
추정 및 예측: 시장 추정 및 예측을 위해 이해 관계자에게 제공되는 동인 및 추세, 제약 및 기회를 포함한 다양한 요인에 가중치가 할당되었습니다. 이러한 요인을 분석한 후 관련 예측 기술, 즉 하향식/상향식 접근 방식이 적용되어 전 세계 주요 시장에서 다양한 세분 시장 및 하위 세분 시장에 대한 2032년 시장 예측에 도달했습니다. 시장 규모를 추정하기 위해 채택된 연구 방법론은 다음을 포함합니다.
수익(USD) 측면에서 산업의 시장 규모와 국내 주요 시장에서 극자외선 리소그래피의 채택률
시장 세분 시장 및 하위 세분 시장의 모든 비율 점유율, 분할 및 세분화
제공되는 제품 측면에서 글로벌 극자외선 리소그래피 시장의 주요 업체. 또한 빠르게 성장하는 시장에서 경쟁하기 위해 이러한 업체가 채택한 성장 전략
시장 규모 및 점유율 검증
1차 연구: 주요 지역에서 최고 경영진(CXO/VP, 영업 책임자, 마케팅 책임자, 운영 책임자, 지역 책임자, 국가 책임자 등)을 포함한 핵심 오피니언 리더(KOL)와 심층 인터뷰를 진행했습니다. 그런 다음 1차 연구 결과를 요약하고 명시된 가설을 증명하기 위해 통계 분석을 수행했습니다. 1차 연구의 입력은 2차 결과와 통합되어 정보를 실행 가능한 통찰력으로 전환했습니다.
다양한 지역의 1차 참가자 분할
시장 엔지니어링
데이터 삼각 측량 기술은 전체 시장 추정을 완료하고 글로벌 극자외선 리소그래피 시장의 각 세분 시장 및 하위 세분 시장에 대한 정확한 통계 수치에 도달하는 데 사용되었습니다. 글로벌 극자외선 리소그래피 시장에서 구성 요소 및 최종 사용자의 영역에서 다양한 매개변수와 추세를 연구한 후 데이터를 여러 세분 시장 및 하위 세분 시장으로 분할했습니다.
글로벌 극자외선 리소그래피 시장 연구의 주요 목표
글로벌 극자외선 리소그래피 시장의 현재 및 미래 시장 동향이 연구에서 정확히 지적되었습니다. 투자자는 연구에서 수행된 정성적 및 정량적 분석에 대한 투자 재량을 기반으로 하는 전략적 통찰력을 얻을 수 있습니다. 현재와 미래의 시장 동향은 지역 수준에서 시장의 전반적인 매력을 결정하여 산업 참가자가 미개척 시장을 활용하여 선점자의 이점을 누릴 수 있는 플랫폼을 제공했습니다. 연구의 다른 정량적 목표는 다음과 같습니다.
가치(USD) 측면에서 극자외선 리소그래피 산업의 현재 및 예측 시장 규모를 분석합니다. 또한 다양한 세분 시장 및 하위 세분 시장의 현재 및 예측 시장 규모를 분석합니다.
연구의 세분 시장에는 구성 요소 및 최종 사용자 영역이 포함됩니다.
극자외선 리소그래피 산업에 대한 규제 프레임워크를 정의하고 분석합니다.
다양한 중개인의 존재와 관련된 가치 사슬을 분석하고 산업의 고객 및 경쟁업체 행동을 분석합니다.
주요 지역에 대한 극자외선 리소그래피 시장의 현재 및 예측 시장 규모를 분석합니다.
보고서에서 연구된 지역의 주요 국가에는 아시아 태평양, 유럽, 북미 및 기타 지역이 포함됩니다.
극자외선 리소그래피 시장의 회사 프로필과 빠르게 성장하는 시장에서 지속하기 위해 시장 참가자가 채택한 성장 전략
산업에 대한 심층적인 지역 수준 분석
자주 묻는 질문 자주 묻는 질문
Q1: 극자외선 리소그래피 시장의 현재 시장 규모와 성장 잠재력은 무엇입니까?
극자외선 리소그래피 시장은 2023년에 91억 3,720만 달러로 평가되었으며 예측 기간(2024-2032) 동안 약 12.8%의 강력한 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
Q2: 극자외선 노광 시장 성장의 주요 요인은 무엇입니까?
극자외선 리소그래피 시장의 성장은 더 작고 고성능인 칩에 대한 수요 증가, 반도체 기술의 발전, R&D 및 제조에 대한 상당한 투자에 의해 주도됩니다.
Q3: 부품별 극자외선 리소그래피 시장에서 가장 큰 점유율을 차지하는 부문은 무엇입니까?
광원 부문은 구성 요소별 극자외선 리소그래피 시장에서 가장 큰 점유율을 차지합니다.
Q4: 극자외선 리소그래피 시장의 떠오르는 기술 및 트렌드는 무엇입니까?
EUV 리소그래피 시장의 새로운 기술 및 트렌드에는 고출력 EUV 광원 개발, 마스크 기술 개선, 향상된 공정 제어 및 효율성을 위한 AI 및 머신 러닝 통합 등이 있습니다.
Q5: 극자외선(Extreme Ultraviolet) 노광 시장에서 어느 지역이 우위를 점할 것으로 예상됩니까?
APAC은 예측 기간 동안 시장을 지배할 것으로 예상됩니다.
