Mercado de litografía ultravioleta extrema (UVE): análisis actual y previsión (2024-2032)

Tamaño y previsión del mercado de litografía ultravioleta extrema

El mercado de la litografía ultravioleta extrema se valoró en 9.137,2 millones de USD en 2023 y se espera que crezca a una fuerte CAGR de alrededor del 12,8% durante el período de pronóstico (2024-2032) debido al apoyo gubernamental, los avances tecnológicos y la creciente demanda de chips más pequeños y de alto rendimiento.

Análisis del mercado de litografía ultravioleta extrema

El mercado de la litografía UVE es un segmento de mercado secundario de la industria de semiconductores que se requiere para producir chips en nodos avanzados como 5nm, 3nm y más allá. La litografía UVE, con una longitud de onda de 13,5 nm, se utiliza para el patrón de alta resolución de obleas de semiconductores y se requiere para el desarrollo de chips más pequeños, más rápidos y más eficientes. Esto es clave para desatar innovaciones en IA, 5G, IoT, vehículos autónomos y electrónica de consumo. Impulsado principalmente por la creciente necesidad del mercado de chips de alto rendimiento, la importante inversión de gigantes de la industria como TSMC, Samsung e Intel, y los rápidos avances en la tecnología de fabricación de semiconductores. La adopción de la litografía UVE en todo el mundo también se ve facilitada por la financiación gubernamental y el establecimiento de cadenas de suministro de semiconductores mediante iniciativas gubernamentales.

EE. UU., Corea del Sur y Taiwán son los países de más rápido crecimiento en el mercado de la litografía UVE, impulsados por sus sólidos ecosistemas de semiconductores y las enormes inversiones en las tecnologías de fabricación más avanzadas. Con las enormes inversiones de la Ley CHIPS y las nuevas fábricas de Intel y TSMC, EE. UU. está creciendo rápidamente. Samsung y SK Hynix de Corea del Sur apuestan por sí mismas expandiendo la capacidad de las fundiciones para satisfacer la demanda mundial de chips avanzados. TSMC, con sede en Taiwán, sigue liderando el mundo en la producción de chips porque tiene las capacidades más avanzadas y la capacidad de fabricación de gran volumen. Además, China está asumiendo un papel cada vez más activo, con profundas inversiones gubernamentales para reducir la dependencia de la tecnología de semiconductores extranjera y lograr la autosuficiencia tecnológica. El futuro del mercado de la litografía UVE está siendo impulsado por estos países, tanto en el fomento como en la ampliación de la innovación.

Tendencias del mercado de litografía ultravioleta extrema

Esta sección analiza las principales tendencias del mercado que están influyendo en los diversos segmentos del mercado de litografía ultravioleta extrema, tal como las ha identificado nuestro equipo de expertos en investigación.

Demanda de nodos más pequeños

El impulsor clave del mercado de la litografía UVE es el requisito de nodos de semiconductores más pequeños. Con la tecnología avanzando en campos como la IA, 5G e IoT, estamos viendo más propósitos de chips más pequeños, más potentes y energéticamente eficientes. Para hacer posibles estas tecnologías avanzadas, también debe haber chips que tengan una mayor densidad de transistores para admitir velocidades de procesamiento más rápidas y un menor consumo de energía. Para seguir avanzando más allá de los nodos de 5 nm, 3 nm y 2 nm, los fabricantes de semiconductores deben confiar cada vez más en la litografía UVE para permitir el patrón muy preciso necesario para tamaños de características tan bajos. Esto es para mantener el crecimiento del mercado de UVE debido a esta necesidad de nodos más pequeños.

Inversiones en I+D y fabricación

Las empresas de semiconductores invierten masivamente en investigación, desarrollo y fabricación, y la adopción de la litografía UVE se está acelerando. Pero Intel, TSMC y Samsung están gastando miles de millones de dólares en investigación y desarrollo en ciencia del silicio para mantenerse a la vanguardia del competitivo mundo de la fabricación de chips. El enfoque de estas inversiones es la eficiencia de la fabricación, el desarrollo de nuevas arquitecturas de chips y la creación de tecnologías avanzadas de semiconductores. Por lo tanto, la litografía UVE es esencial para permitir los chips de próxima generación al extender la vanguardia de la fotolitografía actual más allá de lo que es posible actualmente.

Chips de alto rendimiento

Otro impulsor principal del mercado de UVE es la creciente necesidad de chips de alto rendimiento. Los chips que ofrecen mayores velocidades, mayores capacidades de almacenamiento y un rendimiento más eficiente energéticamente se están volviendo rápidamente en demanda en industrias como la automotriz, la electrónica de consumo, los centros de datos y la computación en la nube. Estos requisitos no se pueden cumplir sin procesos avanzados de semiconductores, como la litografía UVE, que permiten la fabricación de chips con transistores más pequeños, cada vez más densamente empaquetados, que funcionan más rápido y consumen menos energía. A medida que la dependencia de estos chips sigue creciendo en las aplicaciones, la demanda de tecnología UVE crece al mismo tiempo.

Apoyo gubernamental

Una vez más, la adopción de la litografía UVE depende en gran medida de las iniciativas y la financiación gubernamentales. Esto es particularmente cierto en muchos gobiernos de todo el mundo, incluidos los de regiones como Estados Unidos, Europa y Asia, que han comenzado a ejecutar iniciativas para aumentar la producción nacional de semiconductores y disminuir su dependencia de las tecnologías extranjeras. Digamos, por ejemplo, que la Ley CHIPS de EE. UU. gasta dinero para fomentar la fabricación nacional de chips, impulsando la adopción de tecnologías avanzadas como la UVE. Del mismo modo, países como Corea del Sur y Japón invirtieron mucho en el desarrollo de sus industrias de semiconductores. Esto fomenta un entorno en el que la tecnología UVE prospera y crece y, lo que es más importante, esto proporciona un crecimiento del mercado a largo plazo.

Se espera que APAC crezca con una CAGR significativa durante el período de pronóstico

La región de Asia Pacífico (APAC) está a la vanguardia del mercado de litografía ultravioleta extrema (UVE), que atrae a los principales fabricantes de semiconductores como Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), Samsung Electronics y SK Hynix. Estas empresas están liderando el camino en la adopción de UVE para la producción de chips avanzados, como nodos de 5 nm y 3 nm, en el centro mundial de producción de semiconductores en APAC. En países como Taiwán, Corea del Sur, Japón y China, las iniciativas gubernamentales están aumentando aún más la adopción de UVE, con grandes inversiones, financiación y apoyo a I+D para la I+D nacional de semiconductores. APAC sigue siendo un mercado clave para la litografía UVE debido a la creciente demanda de chips de alto rendimiento y eficiencia energética en industrias como 5G, IA y automotriz, y para impulsar la innovación y las capacidades de fabricación que ayudan a definir el panorama mundial de los semiconductores.

Descripción general de la industria de la litografía ultravioleta extrema

El mercado de la litografía ultravioleta extrema es competitivo y está fragmentado, con la presencia de varios actores del mercado globales e internacionales. Los actores clave están adoptando diferentes estrategias de crecimiento para mejorar su presencia en el mercado, como asociaciones, acuerdos, colaboraciones, lanzamientos de nuevos productos, expansiones geográficas y fusiones y adquisiciones. Algunos de los principales actores que operan en el mercado incluyen ASML Holding NV, NTT Advanced Technology Corporation, Canon Inc., Nikon Corporation, Intel Corporation, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Samsung Electronics Co. Ltd., Toppan Photomasks Inc., ZEISS Group y Ushio, Inc.

Noticias del mercado de litografía ultravioleta extrema

• En mayo de 2024, Intel se ha asegurado todas las existencias de equipos de fabricación de chips de alta apertura numérica NA ultravioleta extrema (UVE de alta NA) de ASML que se fabricarán este año. Según un informe de TheElec, ASML, con sede en los Países Bajos, tiene capacidad para producir alrededor de cinco o seis unidades de equipos UVE de alta NA cada año, e Intel se ha asegurado las cinco que están programadas para su producción en 2024. Cada unidad cuesta aproximadamente 370 millones de dólares. El informe añade que Samsung y SK Hynix tendrán que esperar hasta la segunda mitad de 2025 para hacerse con equipos de ASML.

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