Рынок экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии: текущий анализ и прогноз (2024-2032)

Акцент на компонентах (источник света, оптика, маска и прочее); конечные пользователи (производители интегральных устройств и литейные производства); регион/страна.

География:

Global

Последнее обновление:

Feb 2025

Скачать образец
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Size & Forecast.jpg

Размер и прогноз рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии

Объем рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии в 2023 году оценивался в 9 137,2 млн долларов США, и ожидается, что в течение прогнозируемого периода (2024-2032 гг.) он будет расти с высокими среднегодовыми темпами роста около 12,8% благодаря государственной поддержке, технологическим достижениям и растущему спросу на более мелкие, высокопроизводительные чипы.

Анализ рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии

Рынок EUV-литографии является вторичным сегментом рынка полупроводниковой промышленности, который необходим для производства чипов в передовых узлах, таких как 5 нм, 3 нм и более. EUV-литография с длиной волны 13,5 нм используется для нанесения рисунка на полупроводниковые пластины с высоким разрешением и необходима для разработки более мелких, быстрых и эффективных чипов. Это является ключом к раскрытию инноваций в области искусственного интеллекта, 5G, Интернета вещей, автономных транспортных средств и бытовой электроники. В основном это обусловлено растущей потребностью рынка в высокопроизводительных чипах, значительными инвестициями со стороны таких промышленных гигантов, как TSMC, Samsung и Intel, а также быстрым развитием технологий производства полупроводников. Внедрению EUV-литографии во всем мире также способствуют государственное финансирование и создание цепочек поставок полупроводников посредством государственных инициатив.

США, Южная Корея и Тайвань являются самыми быстрорастущими странами на рынке EUV-литографии, что обусловлено их сильными полупроводниковыми экосистемами и масштабными инвестициями в самые передовые производственные технологии. Благодаря огромным инвестициям в рамках закона CHIPS и новым фабрикам Intel и TSMC, США быстро растут. Samsung и SK Hynix из Южной Кореи делают ставку на расширение мощностей литейного производства, чтобы удовлетворить мировой спрос на передовые чипы. TSMC, штаб-квартира которой находится на Тайване, по-прежнему является мировым лидером в производстве чипов, поскольку обладает самыми передовыми возможностями и мощностями для производства больших объемов. Кроме того, Китай все активнее играет более активную роль, осуществляя глубокие государственные инвестиции, чтобы снизить зависимость от иностранных полупроводниковых технологий и добиться технологической самодостаточности. Будущее рынка EUV-литографии определяется этими странами, как в стимулировании, так и в масштабировании инноваций.

Тенденции рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии

В этом разделе рассматриваются основные тенденции рынка, которые влияют на различные сегменты рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии, как определено нашей командой экспертов по исследованиям.

Спрос на узлы меньшего размера

Ключевым драйвером рынка EUV-литографии является потребность в полупроводниковых узлах меньшего размера. С развитием технологий, таких как искусственный интеллект, 5G и Интернет вещей, мы наблюдаем большее применение меньших по размеру, более мощных и энергоэффективных чипов. Чтобы сделать эти передовые технологии возможными, также должны быть чипы с более высокой плотностью транзисторов для поддержки более высокой скорости обработки и меньшего энергопотребления. Чтобы продолжать продвигаться за пределы 5-нм, 3-нм и 2-нм узлов, производители полупроводников должны все больше полагаться на EUV-литографию, чтобы обеспечить очень точное нанесение рисунка, необходимое для таких малых размеров элементов. Это необходимо для поддержания роста рынка EUV из-за стремления к узлам меньшего размера.

Инвестиции в НИОКР и производство

Полупроводниковые компании массово инвестируют в исследования, разработки и производство, и внедрение EUV-литографии ускоряется. Но Intel, TSMC и Samsung тратят миллиарды долларов на исследования и разработки в области кремниевой науки, чтобы оставаться впереди конкурентного мира производства чипов. Основное внимание этих инвестиций уделяется эффективности производства, разработке новых архитектур чипов и созданию передовых полупроводниковых технологий. Поэтому EUV-литография необходима для создания чипов следующего поколения, расширяя передовой край современной фотолитографии за пределы того, что в настоящее время возможно.

Высокопроизводительные чипы

Еще одним основным драйвером рынка EUV является растущая потребность в высокопроизводительных чипах. Чипы, которые обеспечивают более высокую скорость, большую емкость хранения и более энергоэффективную работу, быстро становятся востребованными в таких отраслях, как автомобилестроение, бытовая электроника, центры обработки данных и облачные вычисления. Эти требования не могут быть удовлетворены без передовых полупроводниковых процессов, таких как EUV-литография, которая позволяет производить чипы с меньшими по размеру, все более плотно упакованными транзисторами, которые работают быстрее и потребляют меньше энергии. Это связано с тем, что по мере того, как зависимость от этих чипов продолжает расти в приложениях, спрос на технологию EUV растет одновременно.

Государственная поддержка

В очередной раз внедрение EUV-литографии в значительной степени зависит от государственных инициатив и финансирования. Это особенно верно для многих правительств по всему миру, включая правительства таких регионов, как Соединенные Штаты, Европа и Азия, которые начали реализовывать инициативы по увеличению внутреннего производства полупроводников и уменьшению своей зависимости от иностранных технологий. Например, закон США CHIPS тратит деньги на стимулирование внутреннего производства чипов, стимулируя внедрение передовых технологий, таких как EUV. Аналогичным образом, такие страны, как Южная Корея и Япония, вложили много средств в развитие своей полупроводниковой промышленности. Это создает среду, в которой технология EUV процветает и растет, и, что более важно, это обеспечивает долгосрочный рост рынка.

Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Segmentation

Ожидается, что Азиатско-Тихоокеанский регион будет расти со значительным среднегодовым темпом роста в течение прогнозируемого периода

Азиатско-Тихоокеанский регион (APAC) находится в авангарде рынка экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, который привлекает крупных производителей полупроводников, таких как Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), Samsung Electronics и SK Hynix. Эти компании лидируют во внедрении EUV для производства передовых чипов, таких как 5-нм и 3-нм узлы в глобальном центре производства полупроводников в APAC. В таких странах, как Тайвань, Южная Корея, Япония и Китай, правительственные инициативы еще больше увеличивают внедрение EUV благодаря крупным инвестициям, финансированию и поддержке НИОКР в отечественные полупроводниковые НИОКР. APAC продолжает оставаться ключевым рынком для EUV-литографии из-за растущего спроса на высокопроизводительные, энергоэффективные чипы в таких отраслях, как 5G, искусственный интеллект и автомобилестроение, а также для стимулирования инноваций и производственных возможностей, которые помогают определять глобальный полупроводниковый ландшафт.

Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Trends.jpg

Обзор индустрии экстремальной ультрафиолетовой литографии

Рынок экстремальной ультрафиолетовой литографии является конкурентным и фрагментированным, с присутствием нескольких глобальных и международных игроков рынка. Ключевые игроки используют различные стратегии роста для усиления своего присутствия на рынке, такие как партнерства, соглашения, сотрудничество, запуск новых продуктов, географическое расширение, а также слияния и поглощения. К числу основных игроков, работающих на рынке, относятся ASML Holding NV, NTT Advanced Technology Corporation, Canon Inc., Nikon Corporation, Intel Corporation, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Samsung Electronics Co. Ltd., Toppan Photomasks Inc., ZEISS Group и Ushio, Inc.

Новости рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии

  • В мае 2024 года Intel зарезервировала весь запас оборудования ASML для производства чипов с высокой числовой апертурой NA Extreme Ultraviolet (High NA EUV), которое должно быть произведено в этом году. Согласно отчету TheElec, базирующаяся в Нидерландах ASML имеет возможность производить около пяти или шести единиц оборудования High-NA EUV в год, при этом Intel зарезервировала все пять единиц, которые планируется произвести в 2024 году. Каждая единица стоит примерно 370 миллионов долларов. В отчете добавлено, что Samsung и SK Hynix теперь придется ждать до второй половины 2025 года, чтобы получить оборудование от ASML.

Обзор отчета о рынке экстремальной ультрафиолетовой литографии

Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Report Coverage.JPG

Причины купить этот отчет:

  • Исследование включает в себя анализ размеров рынка и прогнозирования, подтвержденный аутентифицированными ключевыми отраслевыми экспертами.

  • В отчете представлен краткий обзор общих показателей отрасли с первого взгляда.

  • В отчете представлен углубленный анализ видных отраслевых аналогов с уделением основного внимания ключевым финансовым показателям бизнеса, портфелям продуктов, стратегиям расширения и последним разработкам.

  • Подробное изучение драйверов, ограничений, ключевых тенденций и возможностей, преобладающих в отрасли.

  • Исследование всесторонне охватывает рынок по различным сегментам.

  • Углубленный анализ отрасли на региональном уровне.

Варианты настройки:

Глобальный рынок экстремальной ультрафиолетовой литографии может быть дополнительно настроен в соответствии с требованиями или любым другим сегментом рынка. Кроме того, UMI понимает, что у вас могут быть свои собственные бизнес-потребности, поэтому не стесняйтесь обращаться к нам, чтобы получить отчет, который полностью соответствует вашим требованиям.

Содержание

Методология исследования для анализа рынка экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии (2024-2032 гг.)

Анализ исторического рынка, оценка текущего рынка и прогнозирование будущего рынка глобальной экстремальной ультрафиолетовой литографии были тремя основными этапами, предпринятыми для создания и изучения внедрения экстремальной ультрафиолетовой литографии в основных регионах мира. Было проведено исчерпывающее вторичное исследование для сбора данных об историческом рынке и оценки текущего размера рынка. Во-вторых, для подтверждения этих данных были приняты во внимание многочисленные выводы и предположения. Кроме того, были проведены исчерпывающие первичные интервью с отраслевыми экспертами по всей цепочке создания стоимости глобального рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии. После предположения и проверки рыночных показателей посредством первичных интервью мы использовали подход сверху вниз/снизу вверх для прогнозирования общего размера рынка. После этого были приняты методы разбивки рынка и триангуляции данных для оценки и анализа размера рынка сегментов и подсегментов отрасли. Подробная методология описана ниже:

Анализ исторического размера рынка

Этап 1: Углубленное изучение вторичных источников:

Было проведено подробное вторичное исследование для получения данных об историческом размере рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии из внутренних источников компании, таких как годовые отчеты и финансовая отчетность, презентации о деятельности, пресс-релизы и т. д., и внешних источников, включая журналы, новости и статьи, правительственные публикации, публикации конкурентов, отраслевые отчеты, сторонние базы данных и другие надежные публикации.

Этап 2: Сегментация рынка:

После получения данных об историческом размере рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии мы провели подробный вторичный анализ для сбора исторических данных о рынке и доли для различных сегментов и подсегментов в основных регионах. В отчет включены основные сегменты, такие как компонент и конечный пользователь. Был проведен дальнейший анализ на уровне стран для оценки общего внедрения моделей тестирования в этом регионе.

Этап 3: Факторный анализ:

После получения данных об историческом размере рынка различных сегментов и подсегментов мы провели подробный факторный анализ для оценки текущего размера рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии. Кроме того, мы провели факторный анализ с использованием зависимых и независимых переменных, таких как компонент и конечный пользователь рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии. Был проведен тщательный анализ сценариев спроса и предложения с учетом ведущих партнерств, слияний и поглощений, расширения бизнеса и запуска продуктов в секторе экстремальной ультрафиолетовой литографии по всему миру.

Оценка и прогноз текущего размера рынка

Определение текущего размера рынка: На основе практически применимых данных, полученных на основе вышеуказанных 3 этапов, мы определили текущий размер рынка, ключевых игроков на глобальном рынке экстремальной ультрафиолетовой литографии и доли рынка сегментов. Все необходимые процентные доли и разбивки рынка были определены с использованием вышеупомянутого вторичного подхода и были проверены посредством первичных интервью.

Оценка и прогнозирование: Для оценки и прогнозирования рынка различным факторам были присвоены веса, включая движущие силы и тенденции, ограничения и возможности, доступные для заинтересованных сторон. После анализа этих факторов были применены соответствующие методы прогнозирования, т. е. подход сверху вниз/снизу вверх, для получения прогноза рынка на 2032 год для различных сегментов и подсегментов на основных рынках по всему миру. Методология исследования, принятая для оценки размера рынка, включает в себя:

  • Размер рынка отрасли с точки зрения выручки (доллары США) и темпы внедрения экстремальной ультрафиолетовой литографии на основных рынках внутри страны

  • Все процентные доли, разделения и разбивки сегментов и подсегментов рынка

  • Ключевые игроки на мировом рынке экстремальной ультрафиолетовой литографии с точки зрения предлагаемых продуктов. Кроме того, стратегии роста, принятые этими игроками для конкуренции на быстрорастущем рынке

Подтверждение размера рынка и доли рынка

Первичное исследование: Были проведены углубленные интервью с ключевыми лидерами общественного мнения (KOL), включая руководителей высшего звена (CXO/VP, руководители отдела продаж, руководители отдела маркетинга, руководители операционного отдела, региональные руководители, руководители стран и т. д.) в основных регионах. Затем были обобщены результаты первичных исследований и проведен статистический анализ для доказательства заявленной гипотезы. Данные первичного исследования были объединены с результатами вторичного исследования, что превратило информацию в действенные данные.

Разделение основных участников по разным регионам

Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market Graph.JPG

Инжиниринг рынка

Метод триангуляции данных был использован для завершения общей оценки рынка и получения точных статистических данных для каждого сегмента и подсегмента глобального рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии. Данные были разделены на несколько сегментов и подсегментов после изучения различных параметров и тенденций в областях компонентов и конечных пользователей на глобальном рынке экстремальной ультрафиолетовой литографии.

Основная цель исследования глобального рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии

В исследовании были точно определены текущие и будущие рыночные тенденции глобального рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии. Инвесторы могут получить стратегические сведения, на которых можно основывать свои решения для инвестиций на основе качественного и количественного анализа, проведенного в исследовании. Текущие и будущие рыночные тенденции определили общую привлекательность рынка на региональном уровне, предоставив платформу для промышленного участника для использования неиспользованного рынка, чтобы воспользоваться преимуществом первопроходца. Другие количественные цели исследований включают в себя:

  • Проанализируйте текущий и прогнозируемый размер рынка индустрии экстремальной ультрафиолетовой литографии с точки зрения стоимости (доллары США). Кроме того, проанализируйте текущий и прогнозируемый размер рынка различных сегментов и подсегментов

  • Сегменты в исследовании включают области компонентов и конечных пользователей

  • Определите и проанализируйте нормативно-правовую базу для индустрии экстремальной ультрафиолетовой литографии

  • Проанализируйте цепочку создания стоимости, связанную с присутствием различных посредников, а также проанализируйте поведение клиентов и конкурентов в отрасли

  • Проанализируйте текущий и прогнозируемый размер рынка рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии для основного региона

  • Основные страны регионов, изученных в отчете, включают Азиатско-Тихоокеанский регион, Европу, Северную Америку и остальной мир

  • Профили компаний рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии и стратегии роста, принятые участниками рынка для поддержания устойчивости на быстрорастущем рынке

  • Углубленный анализ отрасли на региональном уровне

Часто задаваемые вопросы Часто задаваемые вопросы

Q1: Каков текущий размер рынка и потенциал роста рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии?

В2: Каковы основные факторы роста рынка экстремальной ультрафиолетовой литографии?

Q3: Какой сегмент имеет наибольшую долю на рынке экстремальной ультрафиолетовой литографии по компонентам?

Q4: Каковы новые технологии и тенденции на рынке экстремальной ультрафиолетовой литографии?

Q5: Какой регион будет доминировать на рынке экстремальной ультрафиолетовой литографии?

Связанные Отчеты

Клиенты, купившие этот товар, также купили

Рынок метрологии и инспекции полупроводников: текущий анализ и прогноз (2025-2033 гг.)

Рынок метрологии и инспекции полупроводников: текущий анализ и прогноз (2025-2033 гг.)

Упор на тип (Литографическая метрология, Система контроля пластин, Метрология тонких пленок и другие системы контроля процессов); Технология (Оптическая и электронно-лучевая); Размер организации (Крупные предприятия и МСП); и Регион/Страна

September 4, 2025

Рынок программируемых пользователем вентильных матриц (FPGA): текущий анализ и прогноз (2025-2033)

Рынок программируемых пользователем вентильных матриц (FPGA): текущий анализ и прогноз (2025-2033)

Акцент на типе (FPGA начального уровня, FPGA среднего уровня и FPGA высокого уровня); Техпроцесс (<=16нм, 20-90нм и >90нм); Технология (FPGA на основе SRAM, FPGA на основе флеш-памяти, FPGA на основе EEPROM и другие); Применение (Телекоммуникации, Аэрокосмическая промышленность и оборона, Центры обработки данных и вычисления, Промышленность, Здравоохранение, Бытовая электроника и другие); и Регион/Страна

September 4, 2025

Рынок корпусирования полупроводников в Мексике: текущий анализ и прогноз (2025-2033 гг.)

Рынок корпусирования полупроводников в Мексике: текущий анализ и прогноз (2025-2033 гг.)

Упор на тип корпуса (Flip Chip, Fan-Out Wafer-Level Packaging (FOWLP), Fan-In Wafer-Level Packaging (FIWLP), 3D Through-Silicon Via (TSV), System-in-Package (SiP), Chip Scale Package (CSP) и другие); тип материала (органические подложки, выводные рамки, соединительные провода, материалы для крепления кристаллов, герметизирующие смолы и другие); и применение (автомобильная электроника, потребительская электроника, телекоммуникации (5G и т. д.), промышленное оборудование, центры обработки данных и серверы и другие)

August 8, 2025

Рынок пластин из карбида кремния (SiC): текущий анализ и прогноз (2025-2033)

Рынок пластин из карбида кремния (SiC): текущий анализ и прогноз (2025-2033)

С акцентом на размер пластины (4 дюйма, 6 дюймов, 8 дюймов, другие); по применению (силовые устройства, электроника и оптоэлектроника, радиочастотные (RF) устройства, другие); по конечному пользователю (автомобильная промышленность и электромобили (EV), аэрокосмическая и оборонная промышленность, телекоммуникации и связь, промышленность и энергетика, другие); и регион/страна

August 5, 2025